摘要: 光刻机技术是大规模集成电路制造领域中的核心技术。文章介绍了光刻机的概念、结构及其简要技术发展历程,并列举和解释了光刻机技术领域的重点技术术语,此外,针对光刻机技术的专利文献查新检索,总结了光刻机技术在专利文献分类中的分布情况。
中图分类号:
王晓东. “光刻机”的概念、技术及其在专利文献中的分布[J]. 中国科技术语, 2014, 16(zk1): 75-76.
WANG Xiaodong. Technology of Lithography Tool and its Distribution in Patent Literatures[J]. China Terminology, 2014, 16(zk1): 75-76.